M03300 - SEMI M33 - Test Method for the Determination of Residual Surface Contamination on Silicon Wafers by Means of Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectroscopy (TXRF) Revision:SEMI M33-0998 (Withdrawn 1107) - Withdrawn - Historical SEMI D62-0611 (first published)

SEMI D62-0611 (first published)

8-1103 (technical revision)

Resistivity is a primary quantity for characterization and specification of material used for semiconductor electronic devices

自動マテリアルハンドリングシステム（AMHS）は，どの半導体工場でも重要な部分であり，通常実施されていて，別個の論理ソフトウェア要素として製造管理システム（MES）と統合されている。AMHSは，AMHSフレームワーク，AMHS装置のためのシステムコントローラ（ソフトウェア）および搬送，格納マシン（ハードウェア）で構成されている。この伝統に従って，CIMフレームワークは，AMHSを「ブラックボックス」とみなす。このシステムへのインタフェースは目に見えるが，そのシステム内部の動きやコントロールはAMHSサプライヤの責任であって，MESの領域ではない。CIMフレームワークでは，マテリアル搬送・格納コンポーネント（MTSC）をMESレベルでのAMHS機能とのインタフェースと規定している。

This Standard provides guidance on maintenance

M03300 - SEMI M33 - Test Method for the Determination of Residual Surface Contamination on Silicon Wafers by Means of Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectroscopy (TXRF) Revision:SEMI M33-0998 (Withdrawn 1107) - Withdrawn - Historical SEMI D62-0611 (first published)This standard was technically approved by the global Silicon Wafer Committee. This edition was approved for publication by the global Audits and Reviews Subcommittee on September 5, 2007. It was available at www. semi. org in October 2007. Originally published September 1998. NOTICE: This document was balloted and approved for withdrawal in 2007. The test provides the analytical procedure to determine the trace level of contaminating elements of an