P01600 - SEMI P16 - 黒鉛炉原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト・メタルイオンフリー（MIF）現像液中の錫の測定 StdVol-Gases これらの方法は，FPDカラーフィルタ用高抵抗樹脂BMの抵抗値測定に一般的に用いられなければならない。

これらの方法は，FPDカラーフィルタ用高抵抗樹脂BMの抵抗値測定に一般的に用いられなければならない。

Michelle Fabiano

本スタンダードは，global Gases Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2000年12月20日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2001年1月にwww

1  This Guide contains definitions of terms which describe gas pressure in MFCs as used in the semiconductor industry

While the basic technique is based upon the conventional MOS capacitor flat band voltage-dielectric thickness approach as outlined in SEMI MF1153

P01600 - SEMI P16 - 黒鉛炉原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト・メタルイオンフリー（MIF）現像液中の錫の測定 StdVol-Gases これらの方法は，FPDカラーフィルタ用高抵抗樹脂BMの抵抗値測定に一般的に用いられなければならない。NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI Global Micropatterning CommitteeNorth American Microlithography Committee2004711North American Regional Standards Committee20049www. semi. org2004111992 NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the