Elegoo - Mars 4 Ultra - Plateau d'impression filamentsNanovia Application à 160°C pendant 20

Application à 160°C pendant 20 secondes

25 g/cm³ Température de distorsion thermique 56°C Indice de fluidité 5 g/10min Résistance à la traction 65 MPa Élongation à la rupture 8 % Résistance à la flexion 90 MPa Module de flexion 3500 MPa

Résistance de surface 1

Température de distorsion thermique : 78°C (ISO 306)

5 s Distance de levage des premières couches 6 mm Distance de levage des autres couches 6 mm Vitesse de levage des premières couches 60 mm/min Vitesse de levage des autres couches 80 mm/min Vitesse de rétraction 150 mm/min Longueur d'ondes 385-405 nm Caractéristiques techniques

Elegoo - Mars 4 Ultra - Plateau d'impression filamentsNanovia Application à 160°C pendant 20